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基于SOI工艺集成电路ESD保护网络分析与设计
基于SOI工艺集成电路ESD保护网络分析与设计
作者:
周晓彬
胡永强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电路
SOI
ESD保护设计
可靠性
摘要:
由于SOI(Silicon-On-Insulator)工艺采用氧化物进行全介质隔离,而氧化物是热的不良导体,因此SOI ESD器件的散热问题使得SOI电路的ESD保护与设计遇到了新的挑战。阐述了一款基于部分耗尽SOI(PD SOI)工艺的数字信号处理电路(DSP)的ESD设计理念和方法,并且通过ESD测试、TLP分析等方法对其ESD保护网络进行分析,找出ESD网络设计的薄弱环节。通过对ESD器件与保护网络的设计优化,并经流片及实验验证,较大幅度地提高了电路的ESD保护性能。
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内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
基于SOI工艺集成电路ESD保护网络分析与设计
来源期刊
电子与封装
学科
工学
关键词
集成电路
SOI
ESD保护设计
可靠性
年,卷(期)
2014,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
29-32,40
页数
5页
分类号
TN402
字数
2891字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
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姓名
单位
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G指数
1
周晓彬
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路
SOI
ESD保护设计
可靠性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
主办单位:
中国电子科技集团公司第五十八研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1681-1070
CN:
32-1709/TN
开本:
大16开
出版地:
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
邮发代号:
创刊时间:
2002
语种:
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
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