不同Ar/O2气压比例条件下立方MgZnO薄膜生长特性及紫外光吸收特性

• 作者: 吕有明 彭赛 曹培江 曾玉祥 朱德亮 柳文军 贾芳 韩舜
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO MgZnO 脉冲激光沉积 紫外探测器
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 684-688
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3396字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20143506.0684

摘要

利用脉冲激光沉积技术在非晶石英衬底上制备了立方结构MgZnO薄膜,研究了在不同Ar/O2气压比例条件下,立方结构MgZnO薄膜的生长取向、光学带隙和Mg/Zn含量比例的变化规律.当固定氧气分压为2Pa、通过注入惰性的Ar气使生长气压从2 Pa升高到7 Pa时,MgZnO薄膜的生长取向由(200)向(1 1 1)转变.当生长气压从2 Pa升高到6 Pa时,MgZnO薄膜光学带隙变窄.而当生长气压从6 Pa升高到7 Pa时,MgZnO薄膜光学带隙反而变宽.通过XPS数据分析,不同生长气压下MgZnO薄膜光学带隙的变化规律与薄膜Mg/Zn含量比例的变化规律不一致,MgZnO薄膜中Mg和Zn与O的结合情况的变化对薄膜的光学带隙也有影响.