大功率半导体激光器腔面膜的场强分布优化

• 作者: 宁永强 张建 张建伟 张金胜 张金龙 王立军
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光器 腔面膜 激光损伤 电场分布
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 145-149
• 页数: 5页
• 分类号: TN248.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201441.0107001

摘要

为了提高半导体激光器腔面膜的激光损伤阈值,进而提高激光器输出功率,对激光器的灾变性光学镜面损伤产生的原因进行了探讨.根据损伤原理,将高反膜中场强最大处移出界面,采用光学传输矩阵,对厚度连续变化的界面场强和反射率进行了计算,得到优化高反膜系,优化膜系减小了界面处的光场对薄膜的损伤.采用改进后束流密度更大的LaB6作为阴极原位等离子源,对离子源清洗的参数进行了优化.薄膜制备前期使用离子清洗的方法在真空环境下对腔面进行去氧化,在制备过程中使用电子束蒸发离子源辅助沉积,并测试了薄膜在高温高湿环境下的稳定性.使用该优化的膜系和清洗方法制备的半导体激光器,在准连续输出时,功率由4.6W提升到了7.02 W,工作电流由5A提升到了8A.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张建	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	113	802	13.0	25.0
2	王立军	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	131	1339	19.0	31.0
3	宁永强	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	49	191	9.0	13.0
4	张建伟	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	16	30	2.0	5.0
5	张金胜	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	206	6.0	8.0
6	张金龙	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	23	188	8.0	13.0