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可放置于晶圆划片槽的STI应力波动检测电路
可放置于晶圆划片槽的STI应力波动检测电路
作者:
刘宁希
姜钰
林殷茵
董庆
陈浩
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
检测电路
STI应力
随机波动
饱和电流
NMOS阵列
摘要:
提出了一个简易的浅沟道隔离(STI)应力波动检测电路.该电路可以放入晶圆片狭长的划片槽中,有利于减小芯片测试成本.采用了双开关管以确保测量精度,并实现了对256个器件参数的同时测量,以得到器件的随机波动特性.设置了一系列具有最小沟道长度、相同器件尺寸、不同STI宽度的共9种NMOS阵列.测量了这些阵列的饱和电流Idsat,以分析STI应力对器件性能的影响.此外,还测量了这些阵列的线性区阈值电压Vtlin波动作为对比.测试芯片在28 nm工艺中进行了流片和验证.每种测试电路所占版图面积为415 μm×50μm.测试结果表明STI应力对器件性能有明显的影响,而且随着STI宽度的减小,Idsat波动增大,而Vtlin波动减小.
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文献信息
篇名
可放置于晶圆划片槽的STI应力波动检测电路
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
检测电路
STI应力
随机波动
饱和电流
NMOS阵列
年,卷(期)
2014,(6)
所属期刊栏目
半导体检测与设备
研究方向
页码范围
464-468
页数
分类号
TN402
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.06.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈浩
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
56
456
12.0
20.0
2
林殷茵
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
40
129
7.0
10.0
3
姜钰
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
1
0
0.0
0.0
4
刘宁希
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
1
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董庆
复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室
4
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2014(0)
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二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
检测电路
STI应力
随机波动
饱和电流
NMOS阵列
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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