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摘要:
提出了一个简易的浅沟道隔离(STI)应力波动检测电路.该电路可以放入晶圆片狭长的划片槽中,有利于减小芯片测试成本.采用了双开关管以确保测量精度,并实现了对256个器件参数的同时测量,以得到器件的随机波动特性.设置了一系列具有最小沟道长度、相同器件尺寸、不同STI宽度的共9种NMOS阵列.测量了这些阵列的饱和电流Idsat,以分析STI应力对器件性能的影响.此外,还测量了这些阵列的线性区阈值电压Vtlin波动作为对比.测试芯片在28 nm工艺中进行了流片和验证.每种测试电路所占版图面积为415 μm×50μm.测试结果表明STI应力对器件性能有明显的影响,而且随着STI宽度的减小,Idsat波动增大,而Vtlin波动减小.
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文献信息
篇名 可放置于晶圆划片槽的STI应力波动检测电路
来源期刊 半导体技术 学科 工学
关键词 检测电路 STI应力 随机波动 饱和电流 NMOS阵列
年,卷(期) 2014,(6) 所属期刊栏目 半导体检测与设备
研究方向 页码范围 464-468
页数 分类号 TN402
字数 语种 中文
DOI 10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.06.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈浩 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 56 456 12.0 20.0
2 林殷茵 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 40 129 7.0 10.0
3 姜钰 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 1 0 0.0 0.0
4 刘宁希 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 1 0 0.0 0.0
5 董庆 复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室 4 7 1.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
检测电路
STI应力
随机波动
饱和电流
NMOS阵列
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
月刊
1003-353X
13-1109/TN
大16开
石家庄179信箱46分箱
18-65
1976
chi
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