镉胁迫下硅对高粱生长的影响及其作用机制

• 作者: 刘朋 殷俐娜 王仕稳 邓西平
• 来源期刊: 水土保持研究
• 关键词: 硅 镉 抗氧化酶 有机酸
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 页码范围: 329-333
• 分类号: Q945.78
• 语种: 中文

摘要

尽管硅提高植物的抗镉毒害已经被广泛的报道,但是其作用机理还不明确.该试验研究在镉胁迫的条件下,硅对高粱生长的影响及作用机制.结果发现:外源施加硅能显著地缓解镉对高梁无论地上部分还是地下部分鲜重及干重的抑制作用.抗氧化酶结果表明:在正常条件下,硅对抗氧化酶的活性没有显著的影响.在镉毒害的条件下,硅显著增强CAT和POD的活性,SOD的活性不受影响.与此相对应:硅显著地降低MDA的含量.对有机酸的分析发现:在镉胁迫的条件下,叶片中有3种有机酸能够检测到:草酸,丙二酸,丁二酸,并且其含量都在硅的调节下增加.而在根系中所检测的4种有机酸中,草酸和丙二酸的含量受到硅的调节而增加,柠檬酸的含量不受影响,而苹果酸的含量却有下降的趋势.上述结果表明:硅增强高粱幼苗的抗镉胁迫与其增强高粱抗氧化酶活性及增加高粱体内有机酸的含量相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓西平	中国科学院水利部水土保持研究所黄土高原土壤侵蚀与旱地农业国家重点实验室	7	276	5.0	7.0