高线密度X射线双光栅的研制

• 作者: 何宽 刘慎业 易涛 朱效立 牛洁斌 陈宝钦
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: X射线双光栅 自支撑透射光栅 电子束光刻 纳米电镀 电子束邻近效应校正(EPC)
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 381-385
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2014.06.006

摘要

研究了采用高分辨率的100 kV电子束光刻和光学光刻系统相结合制作高线密度X射线双光栅的工艺技术,并且分析了电子束邻近效应校正技术在高线密度光栅制备中的应用.首先,利用电子束曝光和纳米电镀技术在同一衬底上制备两种不同线密度光栅图形;然后,利用光学光刻在2 000 lp/mm光栅上制备了自支撑加强筋结构.通过此技术制备的X射线双光栅成功集成了高线密度5 000 lp/mm透射光栅和2 000 lp/mm自支撑透射光栅,其栅线宽度分别为100和250 nm,金吸收体厚度达到400 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宝钦	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室	50	361	11.0	16.0
2	刘慎业	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	113	323	9.0	11.0
3	朱效立	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室	19	86	6.0	8.0
4	易涛	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	25	40	4.0	5.0
5	牛洁斌	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室	12	43	4.0	6.0
6	何宽	中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成实验室	1	4	1.0	1.0