八甲基环四硅氧烷-低温等离子体聚合制备超疏水性磨砂革

• 作者: 冯亚娥 周建飞 廖学品 石碧
• 来源期刊: 中国皮革
• 学科: 工学
• 关键词: 磨砂革 八甲基环四硅氧烷 低温等离子体 聚合 沉积 超疏水性
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 理论探讨·试验研究
• 页码范围: 28-32,36
• 分类号: TS52
• 语种: 中文
• DOI: 10.13536/j.cnki.issn1001-6813.2014+005+008

摘要

利用低温等离子体技术,使八甲基环四硅氧烷(D4)聚合沉积在磨砂革表面,制备了超疏水性磨砂革.测定表明:经低温等离子体处理后的磨砂革,其静态接触角可达150°以上,滚动角低于10°;扫描电镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)观察表明,D4聚合物沉积在磨砂革表面;X射线能谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)分析表明,磨砂革表面经D4-低温等离子体处理后,其表面Si元素的百分含量明显升高,且生成了Si-O-C键.因此,八甲基环四硅氧烷可通过低温等离子体作用形成聚合物,该聚合物与磨砂革表面经低温等离子体活化产生的自由基反应,从而稳定地沉积于磨砂革表面,赋予磨砂革超疏水性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖学品	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	148	1125	17.0	23.0
5	石碧	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	277	4147	31.0	52.0
9	周建飞	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	15	63	4.0	7.0
13	冯亚娥	四川大学皮革化学与工程教育部重点实验室	1	5	1.0	1.0