偏压对非平衡磁控溅射ZrNbAlN薄膜的成分、力学性能及腐蚀特性的影响

• 作者: Muhammad RASHAD 潘复生 潘虎成 石永敬 鲍明东
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: ZrNbAlN多层膜 磁控溅射 成分 腐蚀
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: Functional Materials
• 页码范围: 2856-2863
• 页数: 8页
• 字数: 1224字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(14)63418-X

摘要

采用反应非平衡磁控溅射技术在青铜及Si(100)衬底上沉积不同负偏压(Vb)的纳米ZrNbAlN薄膜。薄膜结构及成分采用X射线光电子能谱及X射线衍射进行表征。结果表明，Zr和Nb的原子浓度受负偏压影响，V b导致N 1s谱和Al 2p谱的结合能增加及Zr 3d 5/2和Nb 3d 5/2谱的结合能降低，薄膜表面形貌的演化受控于V b。X射线衍射谱显示这些薄膜具有(111)择优取向。此外，薄膜的力学特性及腐蚀行为分别通过纳米压痕测试及腐蚀测试表征。当负偏压为-70 V时，纳米压痕测试显示的最大显微硬度为21.85 GPa，ZrNbAlN膜在青铜衬底上的性能远优于未涂层处理的衬底。在0.5 mol/L NaCl和0.5 mol/L HCl溶液中的腐蚀实验表明，腐蚀势能及腐蚀电流依赖于衬底偏压，在-90 V时能够获得较高的抗腐蚀特性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石永敬	重庆大学材料科学与工程学院	8	102	4.0	8.0
3	潘复生	重庆大学材料科学与工程学院	347	6002	40.0	61.0
4	鲍明东	宁波工程学院材料工程研究所	29	102	6.0	8.0
5	潘虎成	重庆大学材料科学与工程学院	4	5	2.0	2.0
8	Muhammad RASHAD	重庆大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0