优质微晶硅薄膜的光学性质

• 作者: 余春日 尹训昌 张杰 江贵生 祝祖送
• 来源期刊: 光谱实验室
• 学科: 化学
• 关键词: 微晶硅薄膜 光照稳定性 均匀性 等离子体增强化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 64-68
• 页数: 5页
• 分类号: O433|O657.37
• 语种: 中文

摘要

对以SiCl4和H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在低温快速沉积的优质微晶硅薄膜的光学性质进行了研究.拉曼谱表明,微晶硅薄膜的晶化度超过80％;SEM结果表明,晶粒分布较均匀,大小平均为60nm左右;光照实验结果表明,该微晶硅薄膜光致电导率基本保持恒定;通过对气流分布进行调节,透射光谱结果表明,微晶硅薄膜的均匀性得到明显改善,均匀度高达95％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张杰		61	188	7.0	11.0
2	余春日		59	196	7.0	10.0
3	尹训昌		40	20	2.0	3.0
4	江贵生		27	28	3.0	4.0
5	祝祖送		28	28	3.0	3.0