温室滴灌条件下灌水下限对小型西瓜生长及耗水特性的影响

• 作者: 刘洪禄 吴文勇 宝哲 尹世洋 程明博 马志军
• 来源期刊: 灌溉排水学报
• 学科: 农学
• 关键词: 温室滴灌 小型西瓜 灌水量 生长 蒸腾
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 页码范围: 92-96
• 分类号: S318
• 语种: 中文
• DOI: 10.13522/j.cnki.ggps.2014.06.021

摘要

研究了温室覆膜滴灌下不同土壤水分下限对小型西瓜根冠发育、品质以及耗水强度的影响.结果表明,高水分下限处理促进了小西瓜冠层发育,低水分下限处理表层0～20 cm根系分生能力及根系活力较强;处理间品质指标无显著差异.各处理(灌水下限由高至低)小西瓜全生育期耗水量分别为179.2、172.5和156.7 mm.果实膨大期温室相对湿度为其蒸腾的主要驱动力,建立的综合考虑土壤-大气环境要素对植株蒸腾影响的日光温室小西瓜蒸腾量(Tr)估算模型,可用于实际生产栽培中的灌溉决策管理.