单晶硅表面制绒及其特性研究

• 作者: 于倩 仲玉泉 张德贤 戴小宛 苏超 蔡宏琨
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 陷光结构 织构率 反射率
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 308-313
• 页数: 6页
• 分类号: TK514|TM914.4
• 字数: 2820字
• 语种: 中文

摘要

研究了在不同的碱液(NaOH,Na2CO3,NaHCO3,Na2 SiO3,Ca(OH)2,CH3 COONa)和异丙醇(IPA)制绒下单晶硅表面金字塔结构的变化情况,使用分光光度计测量了不同结构表面的反射率变化.结果表明,金字塔绒面的表面反射率与金字塔结构及大小分布情况有关,实验中获得的最低表面反射率为7.8％.金字塔结构断面SEM图显示金字塔顶角在断面上的投影角度不会随反应条件和金字塔大小改变,维持在80°左右.最后,通过制绒后硅片表面金字塔形貌的扫描电镜图样和反射率的分析,提出了织构率α的概念,得到了快速了解单晶硅表面金字塔覆盖率的方法.