不同氯化锰含量对铁电沉积过程的影响

• 作者: 方小红 杨凯华 潘秉锁 田永常
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电沉积 氯化锰 成核机理 交流阻抗
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 9-12
• 分类号: TQ153.1
• 语种: 中文

摘要

过去,鲜见氯化锰对铁电沉积阴极过程影响的报道,对铁沉积机理研究相对较少.采用线性扫描伏安法、单电位阶跃计时电流法、交流阻抗谱等技术对基础镀铁液和加入氯化锰后的镀铁液中铁在玻碳电极上的电沉积进行了对比性研究.结果表明:加入氯化锰增大了阴极电化学极化,并有效降低了浓差极化,氯化锰含量超过34g/L后提高含量对阴极极化影响不明显;在-1.225 ～-1.300 V阶跃电位内,不管镀液中是否含有氯化锰,铁在玻碳电极上的电结晶都遵循三维瞬时成核理论,添加氯化锰后扩散系数D显著升高,添加50 g/L MnCl2镀液中的扩散系数相对于基础镀液涨幅达74％;氯化锰使溶液/电极界面电荷传递电阻Rct显著提高、溶液电阻Rsol呈小幅度降低,双电层电容Cdl显著增大,与阴极极化结果相吻合.