ArF准分子激光对氟化物高反射薄膜的诱导损伤

• 作者: 常艳贺 李春 邓文渊 金春水 靳京城
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 激光损伤 氟化物 聚集密度 电场强度分布
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 激光材料和光学元件
• 页码范围: 302-306
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 1966字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2014.03.004

摘要

为了研究特定模式下氟化物高反射薄膜的损伤机理，采用相衬微分干涉显微镜、原子力显微镜和台阶仪对不同工艺条件下制备薄膜的损伤区域逐步进行对比分析，在薄膜沉积温度增加后，随着薄膜体内聚集密度的增加，薄膜激光损伤阈值有所提升；对于规整膜系，体内驻波电场强度分布对薄膜损伤也有较大影响。结果表明，根据薄膜损伤形貌和损伤深度综合推断，制备的高反射薄膜损伤是由薄膜体内的聚集密度和电场强度分布所共同引起。该实验结果为下一步继续研究高性能激光反射薄膜打下了基础。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	56	202	9.0	11.0
3	邓文渊	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	20	187	7.0	13.0
4	常艳贺	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室	8	17	2.0	4.0