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新型阴极弧电源研制及脉冲增强电子发射(P3e)效应研究
新型阴极弧电源研制及脉冲增强电子发射(P3e)效应研究
作者:
孔营
孙伟龙
寇睿
巩春志
田修波
蔡明哲
马英鹤
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
阴极弧
脉冲增强电子发射
脉冲电流
基体电流,等离子体密度
摘要:
本文研制了新型脉冲阴极弧电源,并实现了脉冲增强电子发射(P3e)以提高真空室内等离子体密度.该电源核心由脉冲发射和维持电流系统构成,由单片机和触摸屏系统协同控制和管理.对P3e电源进行放电特性和脉冲增强电子发射效应进行了研究.结果表明,在相同平均电弧电流条件下,与直流相比,P3e技术能够显著提高工件(基体)脉冲电流与平均电流.在电弧平均电流90 A时,基体脉冲电流由5A提高到19.6 A,基体平均电流由2.2A最大提高到4.6A,表明脉冲增强了电子发射,进而获得高的等离子体密度,这将有助于增加膜层致密性、降低膜层应力.该新型电源对于阴极弧靶中毒抑制、膜层结构改善、膜层颗粒污染控制具有重要的意义.
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文献信息
篇名
新型阴极弧电源研制及脉冲增强电子发射(P3e)效应研究
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
阴极弧
脉冲增强电子发射
脉冲电流
基体电流,等离子体密度
年,卷(期)
2014,(4)
所属期刊栏目
测量与控制
研究方向
页码范围
31-34
页数
分类号
TB79
字数
语种
中文
DOI
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研究主题发展历程
节点文献
阴极弧
脉冲增强电子发射
脉冲电流
基体电流,等离子体密度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
12898
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