纳米SiO2表面修饰及在聚乳酸中的应用

• 作者: 刘淑强 吴改红 孙卜昆 戴晋明 肖云超 董华 郭红霞
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米SiO2 硅烷偶联剂 表面修饰 聚乳酸
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 506-510
• 页数: 5页
• 分类号: O64
• 字数: 3205字
• 语种: 中文

摘要

为了降低纳米SiO2的表面能,防止团聚,提高分散性,应用硅烷偶联剂KH-550对纳米SiO2进行表面修饰.分析KH-550用量、反应时间对纳米SiO2修饰效果的影响关系,并应用SEM对纳米SiO2修饰前后形貌进行观测,应用SEM、DSC对聚乳酸/纳米SiO2复合材料进行表征.结果得出纳米SiO2最佳修饰工艺为:KH-550用量5％,反应时间2h.最优工艺修饰的纳米SiO2结构松散,在聚乳酸中分散均匀,复合体系的玻璃化转变温度提高了4.29℃,玻璃化转变温度处的热焓提高了2.431 J/g.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴晋明	太原理工大学轻纺工程学院	81	548	12.0	20.0
2	郭红霞	太原理工大学轻纺工程学院	24	40	4.0	5.0
3	刘淑强	太原理工大学轻纺工程学院	49	103	5.0	9.0
4	吴改红	东华大学服装艺术设计学院	45	61	5.0	6.0
8	董华	太原理工大学轻纺工程学院	4	20	3.0	4.0
9	肖云超	太原理工大学轻纺工程学院	6	16	2.0	4.0
10	孙卜昆	太原理工大学轻纺工程学院	14	24	4.0	4.0