磁控溅射靶磁场的有限元模拟分析

• 作者: 周平权 朱武 褚向前
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 结构参数 磁场分布 有限元模拟
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 44-47
• 分类号: TB79|TB43
• 语种: 中文

摘要

磁控溅射靶面磁感应强度的水平分布直接关系到靶材的利用率和刻蚀的均匀性,为了寻求更好的磁控靶结构参数,从而实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,本文应用COMSOL软件对JGP450C型磁控溅射镀膜机的圆平面靶表面磁感应强度进行了模拟分析计算,得到了靶面水平磁感应强度较强、分布较均匀的磁铁结构参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱武	合肥工业大学真空科学技术与装备研究所	74	744	13.0	24.0
2	褚向前	合肥工业大学真空科学技术与装备研究所	17	59	4.0	7.0
3	周平权	合肥工业大学真空科学技术与装备研究所	1	0	0.0	0.0