各组分体积分数对碱性抛光液存储时间的影响

• 作者: 刘伟娟 刘玉岭 蒋勐婷 袁浩博 陈国栋
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 碱性抛光液 有效存储时间 稳定性 铜布线 化学机械平坦化(CMP)
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 333-336,340
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2014.05.009

摘要

主要研究了碱性抛光液各组分体积分数对其有效存储时间的影响.实验中每隔两个月测试了抛光液的pH值、平均粒径和Cu膜去除速率等参数随存储时间的变化值.研究表明:FA/O螯合剂体积分数是影响抛光液有效存储时间的主要因素,螯合剂体积分数越高抛光液的有效存储时间越短.在FA/O螯合剂体积分数较低时(8％),Cu布线碱性抛光液的有效存储时间在半年以上,基本能够符合产业化要求.SiO2磨料体积分数和非离子型表面活性剂体积分数是影响碱性抛光液有效存储时间的次要因素,对其有效存储时间影响不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈国栋	袁浩博河北工业大学微电子研究所	1	4	1.0	1.0
2	刘玉岭	袁浩博河北工业大学微电子研究所	1	4	1.0	1.0
3	蒋勐婷	袁浩博河北工业大学微电子研究所	1	4	1.0	1.0
4	刘伟娟	袁浩博河北工业大学微电子研究所	1	4	1.0	1.0
5	袁浩博	袁浩博河北工业大学微电子研究所	1	4	1.0	1.0