NH4 HF2对铁电沉积过程的影响

• 作者: 方小红 杨凯华 潘秉锁 田永常
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电沉积 稳定剂 成核机理 交流阻抗
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 研究与探索 Research and Exploration
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.1
• 字数: 2863字
• 语种: 中文

摘要

目的：研究稳定剂NH4 HF2对铁电结晶过程的影响。方法采用线性电位扫描伏安法、单电位阶跃计时电流法、电化学交流阻抗谱等技术，研究含不同浓度NH4 HF2的镀铁溶液中，铁在玻碳电极上的电沉积行为。结果随着NH4 HF2浓度的增加，铁沉积的阴极极化变小。在-1.225~-1.300 V阶跃电位范围内，铁在玻碳电极上的电结晶都遵循三维瞬时成核理论，稳定剂浓度的变化不会改变其成核机理。随着NH4 HF2浓度的增加，晶核垂直生长速率和双电层电容明显增大，溶液/电极界面电荷传递电阻显著降低，而溶液电阻呈小幅度降低。结论稳定剂NH4 HF2的加入可促进Fe2+的电沉积，并提高晶核的垂直生长速率。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方小红	中国地质大学武汉工程学院	14	99	6.0	9.0
2	杨凯华	中国地质大学武汉工程学院	57	603	15.0	20.0
3	潘秉锁	中国地质大学武汉工程学院	33	243	9.0	14.0
4	田永常	中国地质大学武汉工程学院	9	81	5.0	9.0