UV-H2O2工艺对焦化废水中氰化物深度处理研究

• 作者: 孙贤波 毕凌威 钱飞跃 陈波 黄思远
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 焦化废水 UV-H2O2工艺 总氰
• 年，卷（期）: 2014,（12）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 54-56
• 页数: 3页
• 分类号: X703.1
• 语种: 中文

摘要

在新颁布的《炼焦化学工业污染物排放标准》（GB 16171—2012）中，总氰化物的排放限值降至0.2 mg/L，这使得传统除氰工艺已无法满足处理要求。以某焦化厂经生化、混凝处理后的出水为研究对象，探究了UV-H2O2工艺用于深度除氰的可行性。实验结果表明：在pH=10、n（H2O2）∶n（CN）=250∶1的条件下，UV-H2O2工艺处理30 min后总氰去除率可达80%，出水总氰（＜0.18 mg/L）满足新标准要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙贤波	华东理工大学资源与环境工程学院	72	958	17.0	29.0
3	钱飞跃	苏州科技学院环境科学与工程学院	25	118	7.0	9.0
4	黄思远	华东理工大学资源与环境工程学院	4	25	3.0	4.0
10	毕凌威	华东理工大学资源与环境工程学院	1	4	1.0	1.0
14	陈波	华东理工大学资源与环境工程学院	7	15	2.0	3.0