日本近期关注的UV/EB固化技术

• 作者: 吕延晓
• 来源期刊: 精细与专用化学品
• 关键词: 辐射固化 研究与发展 技术进展
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 特别关注
• 页码范围: 14-20
• 页数: 7页
• 字数: 8901字
• 语种: 中文

摘要

辐射固化技术在一些应用领域已相当成熟.然而,目前仍然存在足够的空间开展技术研发工作.日本近期的一些技术关注点是:在新概念的基础上开发固化机理不同的光引发剂(阴离子UV固化光引发剂、开环易位聚合光引发剂);阴影部分的UV光固化;UV光固化在三维(3D)打印中应用(立体激光光刻)的技术进展;以及UV光固化除了电子领域以外的其他应用(例如,在改善生活环境方面的应用).