5-氨基四氮唑存在下的锰电沉积行为

• 作者: 丁其晨 刘伟 李长安 陈上
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 锰 电沉积 添加剂 5-氨基四氮唑
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 484-490
• 页数: 7页
• 分类号: TF803.27
• 字数: 4757字
• 语种: 中文

摘要

采用5-氨基四氮唑(AT)作为锰电沉积过程的新型添加剂，研究不同添加剂用量、电流密度、Mn2+浓度、硫酸铵浓度等条件对锰电沉积电流效率的影响，以及添加剂存在下电解液中杂质离子对电沉积的影响。采用SEM观察了锰电沉积过程中的电极表面状态，采用线性电位扫描法研究添加剂对阴极电极过程的影响。结果表明：在添加剂AT用量0.07 g/L、电流密度460 A/m2、[Mn2+]18 g/L以上、硫酸铵浓度100~120 g/L的电解条件下，锰沉积过程中电流效率可达72%以上，使用该添加剂容许电解液中有少量Fe、Co、Ni、Cu杂质离子存在。锰沉积过程中电流效率变化与电镜观察的锰成晶生长以及阴极板表面的粗糙程度具有相关性，添加剂AT通过对竞争析氢反应的抑制作用来提高锰沉积的电流效率。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈上	吉首大学化学化工学院	68	659	12.0	23.0
2	刘伟	吉首大学化学化工学院	8	24	4.0	4.0
3	丁其晨	吉首大学化学化工学院	9	32	4.0	5.0
4	李长安	吉首大学化学化工学院	8	33	4.0	5.0