光稳定剂在有机高分子文物保护材料改性中的应用

• 作者: 张彤 王丽琴
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 光稳定剂 改性 文物保护材料
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 新材料新技术
• 页码范围: 104-108
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 字数: 4184字
• 语种: 中文

摘要

有机高分子材料是一类重要的文物保护材料,但由于自身稳定性的限制,在紫外线照射下常发生光老化现象.因此,利用光稳定剂对其进行改性,对高性能文物保护材料的研制具有重要意义.综述了有机高分子文物保护材料的光老化机理和紫外线吸收剂、受阻胺、纳米光屏蔽剂3类常用稳定荆的稳定机理,并阐述了其在文物保护材料改性中的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽琴	西北大学文化遗产学院西北大学文化遗产研究与保护技术教育部重点实验室	85	551	11.0	18.0
2	张彤	西北大学文化遗产学院西北大学文化遗产研究与保护技术教育部重点实验室	5	10	2.0	3.0