占空比对磁控溅射TiAlN薄膜性能影响的实验研究

• 作者: 孙智慧 张莉 杨翰林 肖玮 钱锋
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 占空比 磁控溅射 TiAlN 性能
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 25-27
• 分类号: TB43|O484
• 语种: 中文

摘要

采用中频孪生磁控溅射技术,通过调整薄膜沉积过程中占空比大小,制备TiAlN薄膜.并对不同占空比条件下制备的TiAlN薄膜的表面形貌、膜厚、硬度与耐腐蚀性能进行测试与分析,得出占空比变化对磁控溅射TiAlN薄膜性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张莉	哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室	67	374	11.0	17.0
2	孙智慧	哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室	87	596	14.0	21.0
3	钱锋		8	16	3.0	3.0
4	肖玮	哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室	13	15	3.0	3.0
5	杨翰林	哈尔滨商业大学包装科学与工程技术实验室	11	12	2.0	3.0