直流磁控溅射中矩形平面靶刻蚀形貌的数值计算及优化

• 作者: 张以忱 李傲 李建军 黄英
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 矩形靶 Monte Carlo 刻蚀形貌 利用率
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 等离子体技术
• 页码范围: 1206-1214
• 分类号: TN305.92|TB43|TB79
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2014.11.14

摘要

对普通矩形平面靶的磁场分布、电子运动轨迹和电子分布进行了理论计算.通过磁场的解析表达式,解出电子在磁场中的运动方程,求得并从理论上解释了电子的运动轨迹.由电子的运动轨迹,并运用Monte Carlo方法,求得电子在磁场中的分布,得到电子分布的均值和标准差.本文通过在基片和靶材间加正向电场,改变了电子的运动轨迹和空间分布,优化了矩形平面靶的刻蚀形貌,提高了靶材利用率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张以忱	东北大学机械工程与自动化学院	153	408	11.0	16.0
2	黄英	东北大学机械工程与自动化学院	26	293	11.0	16.0
3	李建军	东北大学机械工程与自动化学院	6	34	4.0	5.0
7	李傲	东北大学机械工程与自动化学院	2	8	2.0	2.0