基于Mueller矩阵椭偏仪的纳米压印模板与光刻胶光栅结构准确测量

• 作者: 刘世元 吴懿平 孙堂友 张传维 徐智谋 陈修国 马智超
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 纳米压印 纳米测量 Mueller矩阵椭偏仪 测量准确度
• 年，卷（期）: 2014,（18）
• 所属期刊栏目: 总论
• 页码范围: 180701-1-180701-12
• 页数: 1页
• 分类号: 07.60.Fs|81.07.-b|85.40.Hp|06.20.-f
• 字数: 6022字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.180701

摘要

在纳米压印工艺中，对模板和压印结构的几何参数进行快速、低成本、非破坏性地准确测量具有非常重要的意义。与传统光谱椭偏仪只能改变波长和入射角2个测量条件并且在每一组测量条件下只能获得振幅比和相位差2个测量参数相比， Mueller矩阵椭偏仪可以改变波长、入射角和方位角3个测量条件，而且在每一组测量条件下都可以获得一个4×4阶Mueller矩阵共16个参数，因此可以获得更为丰富的测量信息。通过选择合适的测量条件配置，充分利用Mueller矩阵中的测量信息，有望实现更为准确的纳米结构测量。基于此，本文利用自主研制的Mueller矩阵椭偏仪对硅基光栅模板和纳米压印光刻胶光栅结构进行了测量。实验结果表明，通过对Mueller矩阵椭偏仪进行测量条件优化配置，并且在光学特性建模时考虑测量过程中出现的退偏效应，可以实现压印工艺中纳米结构线宽、线高、侧壁角以及残胶厚度等几何参数更为准确的测量，同时对于纳米压印光刻胶光栅结构还可以直接得到光斑照射区域内残胶厚度的不均匀性参数。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴懿平	华中科技大学材料科学与工程学院	79	771	16.0	24.0
2	刘世元	华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室	35	363	11.0	17.0
3	徐智谋	华中科技大学光学与电子信息学院	21	120	8.0	9.0
4	孙堂友	华中科技大学光学与电子信息学院	4	41	4.0	4.0
5	张传维	华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室	6	25	3.0	5.0
6	陈修国	华中科技大学数字制造装备与技术国家重点实验室	7	22	2.0	4.0
7	马智超	华中科技大学光学与电子信息学院	2	14	2.0	2.0