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多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜表面形貌与成分研究
多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜表面形貌与成分研究
作者:
丁龙先
张弛
张桂如
王培芬
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多弧离子镀
TiN/TiAlN多层薄膜
表面形貌
成分分析
摘要:
采用多弧离子镀技术在高速钢基体上制备了TiN/TiAlN多层薄膜,用扫描电镜及能谱仪对膜层表面形貌和成分进行了观察与分析,结果表明:随钛靶电流的增大,小液滴的尺寸不仅增大,而且形状更不规则,而无液滴处的Al/Ti原子比呈递减规律;随基体偏压的降低,小液滴有减少的趋势,但这一趋势并不明显,而无液滴采集点的Al/Ti原子比也呈递减规律;基体偏压和钛靶电流对较大尺寸的液滴的影响不大.
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多弧离子镀
占空比
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文献信息
篇名
多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜表面形貌与成分研究
来源期刊
真空
学科
工学
关键词
多弧离子镀
TiN/TiAlN多层薄膜
表面形貌
成分分析
年,卷(期)
2014,(6)
所属期刊栏目
薄膜
研究方向
页码范围
32-35
页数
分类号
TB43|O484
字数
语种
中文
DOI
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作者信息
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姓名
单位
发文数
被引次数
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1
王培芬
7
9
2.0
2.0
2
丁龙先
沈阳大学机械工程学院
12
37
4.0
5.0
3
张弛
常州星宇车灯股份有限公司生产技术部
2
4
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张桂如
沈阳大学机械工程学院
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多弧离子镀
TiN/TiAlN多层薄膜
表面形貌
成分分析
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
开本:
大16开
出版地:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
邮发代号:
8-30
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
2692
总下载数(次)
3
总被引数(次)
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