SiAlNx薄膜的应力释放模式及力学性能研究

• 作者: 余森江 周红 陈君 陈苗根
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: SiAlNx薄膜 低辐射镀膜玻璃 电话线屈曲 力学性能 内应力
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 483-489
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.05.09

摘要

利用低辐射镀膜玻璃专用的镀膜生产线,在6mm白玻衬底上制备出SiAlNx薄膜,研究了薄膜在退火之后的内应力释放模式及其力学性能.结果表明:退火后的SiAlNx薄膜存在较大的残余压应力,伴随着压应力的释放,薄膜中出现电话线形屈曲结构;屈曲结构从薄膜边缘产生,并逐渐往样品中心区域扩展;在电话线屈曲的传播过程中,屈曲的各结构参量(包括波长、振幅、宽度等)均发生了明显演化.基于连续弹性理论,对电话线屈曲的结构特征和生长演化进行了分析,并估算了薄膜的内应力和膜基结合能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周红	中国计量学院物理系	12	21	3.0	4.0
2	余森江	中国计量学院物理系	17	16	2.0	2.0
3	陈苗根	中国计量学院物理系	10	16	3.0	4.0
4	陈君		2	0	0.0	0.0