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具有数控衰减和放大功能的单片集成电路
具有数控衰减和放大功能的单片集成电路
作者:
刘会东
刘文杰
高学邦
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
宽带
多功能
放大器
衰减器
砷化镓
摘要:
报道了一款新颖单片集成电路,其集成了数控衰减功能及放大功能.在设计过程中,为实现单片集成电路的宽带特性,放大单元采用负反馈结构;为实现单片集成电路的低噪声特性和功率特性,精确测量器件的噪声特性,合理选择放大单元中器件的工作点,合理布局放大单元和衰减单元衔接顺序;为实现单片集成电路的高精度衰减特性,针对不同衰减量合理选择T型和π型结构.通过以上设计手段,该单片集成电路在1.5~7 GHz增益达到20 dB、噪声系数2 dB、1 dB压缩点输出功率高达18 dBm;能够实现1 dB步进、最大衰减量达到31 dB的衰减功能.该单片集成电路把三款单功能电路集成在一个芯片上,在实现同样功能的前提下大幅缩减芯片面积,有效降低成本.
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相关文献总数
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文献信息
篇名
具有数控衰减和放大功能的单片集成电路
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
宽带
多功能
放大器
衰减器
砷化镓
年,卷(期)
2014,(7)
所属期刊栏目
半导体集成电路
研究方向
页码范围
501-505,511
页数
分类号
TN304.23|TN43
字数
语种
中文
DOI
10.13290/j.cnki.bdtjs.2014.07.004
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
高学邦
中国电子科技集团公司第十三研究所
38
175
8.0
9.0
2
刘文杰
中国电子科技集团公司第十三研究所
13
33
4.0
5.0
3
刘会东
中国电子科技集团公司第十三研究所
8
7
2.0
2.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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引文网络
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二级参考文献
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2012(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2014(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
宽带
多功能
放大器
衰减器
砷化镓
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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