聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线耐电晕性能的研究

• 作者: 刘佳音 周升 唐文进 杨名波 陈琛
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 电磁线 烧结工艺 耐电晕性能
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 63-65
• 页数: 3页
• 分类号: TM245|TM215.3
• 语种: 中文

摘要

通过对聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线的工艺研究，分析了聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线的耐电晕性能。结果表明：影响聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线耐电晕性能的主要因素为烧结温度、绕包张力和红外辐射炉温度。当烧结温度为230℃,绕包张力为8 N，红外辐射炉温度为450℃时，聚酰亚胺薄膜绕包铜扁线的耐电晕性能最佳。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐文进		11	22	3.0	4.0
2	周升		27	114	6.0	9.0
3	刘佳音		7	21	3.0	4.0
4	杨名波		9	20	3.0	4.0
5	陈琛		2	1	1.0	1.0