ZrB2体材及薄膜制备技术研究

• 作者: 刘朋闯 庞晓轩 张鹏程 李强 王庆富 王志刚
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: ZrB2 体材 薄膜 结合性能
• 年，卷（期）: 2014,（6）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 636-639
• 分类号: O484.1|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.06.16

摘要

采用冷等静压成型结合高温烧结的方法制备ZrB2体材,并用磁控溅射方法在UO2芯块表面制备出ZrB2薄膜.利用X射线衍射、扫描电子显微镜、X射线能谱对烧结体及膜层的物相、形貌和成分进行了表征.采用热循环冲击的方法测试膜基结合性能.结果表明,所制体材能够满足磁控溅射制备ZrB2薄膜的需求.体材和膜层均为单相ZrB2,ZrB2薄膜生长均匀、致密且与基体有着良好的结合性能,膜层可以承受80℃到600℃快速升降温5次的热循环而仍然与基体紧密结合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹏程	中国工程物理研究院材料研究所	52	290	10.0	14.0
2	王庆富	中国工程物理研究院材料研究所	27	143	8.0	10.0
3	庞晓轩	中国工程物理研究院材料研究所	9	18	3.0	4.0
4	李强	中国工程物理研究院材料研究所	54	152	8.0	10.0
5	刘朋闯	中国工程物理研究院材料研究所	3	6	2.0	2.0
6	王志刚		2	1	1.0	1.0