真空紫外激光辐照对熔石英表面氧空位的影响

• 作者: 刘红婕 叶鑫 吴卫东 周信达 周晓燕 孙来喜 王凤蕊 耿峰 黄进
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外脉冲激光 X射线光电子能谱 熔石英 损伤阈值 氧空位
• 年，卷（期）: 2014,（12）
• 所属期刊栏目: 其它
• 页码范围: 1393-1398
• 分类号: TB321
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2014.12.20

摘要

在真空环境下利用紫外脉冲激光对熔石英元件表面进行了低于损伤阈值的辐照,通过X射线光电子能谱对激光诱导的表面氧空位进行了精细表征.研究结果表明:在10-3 Pa的高真空环境下熔石英表面易受紫外激光激励形成低结合能的O1s(531eV),这种非稳定结构在后续紫外脉冲激光辐照下会出现Si-O键断裂从而产生氧空位,氧空位产生的程度取决于激光脉冲能量、发次以及真空度,且对熔石英元件的抗损伤性能有显著的负面影响.