恒电位法电沉积聚8-羟基喹啉薄膜

• 作者: 刘中兴 刘小勤 曾冬铭 黄凤祥 黄发军
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 镀镍层 8-羟基喹啉 薄膜 聚合 电沉积 恒电位法 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2014,（24）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1041-1044
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.19
• 字数: 3261字
• 语种: 中文

摘要

采用恒电位法在镀镍工件表面制备聚8-羟基喹啉薄膜.研究了沉积电位、8-羟基喹啉浓度、NaOH浓度、沉积时间等工艺条件对薄膜耐蚀性的影响.分别采用盐水周浸泡试验、三氯化铁缝隙试验和Tafel极化曲线法对比研究了恒电位法电沉积试样、循环伏安法电沉积试样和空白工件的耐蚀性.采用扫描电镜表征了聚8-羟基喹啉薄膜的表面形貌.恒电位法沉积的最佳工艺条件为:8-羟基喹啉2 mmol/L,NaOH 0.4 mol/L,电位0.5 V,时间300 s,室温.采用最佳工艺所得薄膜的耐蚀性略优于循环伏安法试样,远优于空白工件.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾冬铭	中南大学有色金属资源化学教育部重点实验室	53	500	14.0	20.0
5	刘中兴		7	21	3.0	4.0
6	黄发军	中南大学化学化工学院	3	5	2.0	2.0
7	刘小勤		2	3	1.0	1.0
8	黄凤祥		2	3	1.0	1.0