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原文服务方: 绝缘材料       
摘要:
以均苯四甲酸二酐(PMDA),4,4′-二氨基二苯醚(ODA)为单体,分别采用N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)、DMAc/二甲苯为溶剂,制备了两种PI/SiO2纳米杂化薄膜,并对其微观结构、热稳定性、光学透明性、力学性能进行研究。结果表明:与采用DMAc为溶剂相比,当采用DMAc/二甲苯为溶剂时,SiO2粒子的粒径较小;PI/SiO2纳米杂化薄膜的热稳定性、透光性、强度及韧性均得到提高。
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篇名 溶剂对PI/SiO2纳米杂化薄膜性能的影响
来源期刊 绝缘材料 学科
关键词 聚酰亚胺 二氧化硅 微观结构 热稳定性 透光性 力学性能
年,卷(期) 2014,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 48-51
页数 4页 分类号 TM215.3
字数 语种 中文
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绝缘材料
月刊
1009-9239
45-1287/TM
大16开
1966-01-01
chi
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2892
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