中频磁控溅射TiAlN薄膜的制备与性能研究

• 作者: 何迪 安小建 廖凤娟 罗磊 谭刚 赵广彬
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN薄膜 非平衡磁控溅射 中频溅射
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: TM28
• 字数: 3651字
• 语种: 中文

摘要

采用中频非平衡磁控溅射离子镀技术在硬质合金基体YG6上制备TiAlN薄膜。利用XRD、EDS、体式显微镜、显微硬度仪和多功能材料表面性能测试仪等对其组织结构以及性能进行了研究分析。结果表明：低Al靶功率时，膜层以TiN、TiC形式存在，TiN的择优取向面（111），显微硬度与偏压有关；高Al靶功率时，膜层主要存在Ti3AlN、AlN相，Ti3AlN相沿（220）晶面择优取向；膜层结构致密均匀，N原子与金属原子比接近1：1；膜层厚度为1.93μm；显微硬度3145HV；结合力85N。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵广彬	西华大学材料科学与工程学院	24	89	6.0	7.0
2	罗磊	西华大学材料科学与工程学院	3	14	2.0	3.0
3	安小建	西华大学材料科学与工程学院	3	13	2.0	3.0
4	谭刚	西华大学材料科学与工程学院	4	19	2.0	4.0
5	廖凤娟	西华大学材料科学与工程学院	3	18	2.0	3.0
6	何迪	西华大学材料科学与工程学院	10	15	2.0	3.0