射频磁控溅射法制备的CaWO4∶yb3+薄膜及其发光性能研究

• 作者: 傅俊祥 刘宝 廖金生 柳少华 钟来富
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: CaWO4 薄膜 磁控溅射 下转换
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 1234-1239
• 页数: 6页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3665字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20143510.1234

摘要

采用射频磁控溅射法制备了CaWO4∶yb3+薄膜并考察了沉积气压和时间对其结构、形貌和发光性能的影响.在不同的气压下,薄膜的XRD结果与四方相白钨矿结构相吻合,并且沿(004)方向择优生长.SEM图像显示,薄膜表面由椭圆形颗粒和孔洞组成.在260 nm激发下,yb3+在994 nm处发出强近红外光,并且其强度随着溅射气压的升高总体是不规律的,而随着溅射时间的增加先增强后减弱.由于优良的发光性能,CaWO4∶yb3+薄膜可作为潜在增强硅太阳能电池性能的发光转化膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖金生	江西理工大学冶金与化学工程学院	23	100	6.0	9.0
2	傅俊祥	江西理工大学冶金与化学工程学院	3	2	1.0	1.0
3	柳少华	江西理工大学冶金与化学工程学院	5	20	3.0	4.0
4	刘宝	江西理工大学冶金与化学工程学院	3	20	2.0	3.0
5	钟来富	江西理工大学冶金与化学工程学院	2	2	1.0	1.0