阳极钝化电位对黄铜表面钝化膜半导体性能的影响

• 作者: 周琼宇 孟新静 钟庆东
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 黄铜 钝化电位 钝化膜 半导体 Mott-Schottky分析
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与探索 Research and Exploration
• 页码范围: 11-16
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 3681字
• 语种: 中文

摘要

目的：研究黄铜在不同阳极钝化电位下形成的钝化膜的半导体性能。方法通过动电位极化曲线获取黄铜在硼酸盐缓冲溶液中的维钝电位区间，并选取3个钝化电位值对黄铜进行钝化处理，采用电化学阻抗谱和 Mott-Schottky 半导体理论研究阳极钝化电位对钝化膜半导体性能的影响，并进一步利用PDM 模型进行点缺陷扩散系数的计算。结果黄铜在硼酸盐缓冲溶液中有明显的钝化区间，不同钝化电位对应的 Mott-Schottky 直线斜率均为负值，且点缺陷扩散系数均为10-14数量级。随着阳极钝化电位的正移，钝化膜的阻抗值不断增加，受主密度降低，平带电位变小，空间电荷层厚度增加。结论黄铜在不同钝化电位下形成的钝化膜均表现出 p 型半导体的特性，膜中载流子以空穴为主，随着阳极钝化电位的正移，钝化膜的导电性能变差，耐蚀性能增强，对基体的保护作用更好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	钟庆东	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	50	259	9.0	12.0
2	孟新静	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	10	41	5.0	5.0
4	周琼宇	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	8	25	3.0	4.0