不同Ti含量的W-Ti-N复合膜的微结构及性能研究

• 作者: 喻利花 许俊华 赵淑芳 马冰洋
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 磁控溅射 W-Ti-N复合膜 微结构 力学性能 摩擦性能
• 年，卷（期）: 2014,（12）
• 所属期刊栏目: 材料与工艺
• 页码范围: 23-27
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2014.12.004

摘要

采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti-N复合膜.采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征.采用UMT-2功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对W-Ti-N复合膜的摩擦性能进行评价,同时,探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制.结果表明:Ti含量(原子分数,下同)为5％～23.48％时,薄膜硬度处于峰值区,硬度值最高可达39GPa,摩擦因数在0.4左右.当Ti含量高于23.48％时,硬度随着Ti含量增加而下降,摩擦因数随Ti含量的增加而升高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室	58	246	8.0	12.0
3	马冰洋	江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室	7	20	3.0	4.0
4	赵淑芳	江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室	1	0	0.0	0.0