层层组装那他霉素微胶囊释放速率对抗光解的影响

• 作者: 卢向阳 巨修练 李川东 肖俊俊
• 来源期刊: 农药
• 学科: 工学
• 关键词: 那他霉素 微胶囊 层层组装 控制释放 抗光解
• 年，卷（期）: 2014,（12）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 888-891
• 页数: 4页
• 分类号: TQ450.6
• 语种: 中文

摘要

[目的]研究层层组装那他霉素(NA)微胶囊的释放速率对抗光解性能的影响.[方法]采用抑菌圈法测定微胶囊的抗光解性能,HPLC法测定NA在水中的释放速率.[结果]3、7、11层和固化11层组装体的释放速率T10分别较NA原药降低0.47、1.17、1.79、2.81倍;在紫外光下,它们的相对活性下降50％的时间分别为38.24、58.95、67.47、75.26 min,较NA原药分别提高1.0、2.1、2.5、3.0倍.[结论]随着微胶囊组装层数的增加,组装体的释放速率显著下降,微胶囊的抗光解性能也明显提高.