pH 值和缓冲剂对水热电化学沉积 HA/TiO 2涂层的影响

• 作者: 何代华 刘平 刘新宽 徐敏 李伟 陆晓琴 马凤仓
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化膜 水热电化学法 羟基磷灰石 pH 值 缓冲剂
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 所属期刊栏目: 研究?开发
• 页码范围: 7094-7098
• 页数: 5页
• 分类号: TG174
• 字数: 3234字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2014.07.019

摘要

以微弧氧化后的钛合金为基体,采用水热电化学法制备了 HA/TiO 2涂层.利用 SEM、XRD 对涂层的表面形貌、物相组成进行了表征分析,通过 pH 微探针原位探测电极/电解液界面 pH 值的变化,研究了pH 值和缓冲剂对水热电化学沉积 HA/TiO 2涂层的影响.研究结果表明,微弧氧化膜有利于水热电化学沉积 HA,得到的 HA 晶体分布均匀、致密.当电解液pH 值在2~8时,pH 值升高有利于提高水热电化学沉积 HA 的结晶度,并促使 HA 沿(002)晶面生长.在水热电化学沉积 HA 过程中,电极表面的 pH 值随沉积时间的增加先升高后逐渐降低；而溶液中的 pH值随沉积时间的增加逐渐降低.pH 值和缓冲剂对涂层 HA 晶体形貌有明显影响,加入缓冲剂后得到的HA 晶体端面呈六边形棒状结构,晶体表面光滑、结晶完整.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘平	上海理工大学材料科学与工程学院	212	1078	16.0	22.0
2	李伟	上海理工大学材料科学与工程学院	131	544	12.0	19.0
3	马凤仓	上海理工大学材料科学与工程学院	109	494	12.0	18.0
4	刘新宽	上海理工大学材料科学与工程学院	137	518	12.0	18.0
5	徐敏	上海理工大学机械工程学院	21	50	5.0	6.0
6	何代华	上海理工大学材料科学与工程学院	66	203	8.0	12.0
7	陆晓琴	上海理工大学材料科学与工程学院	2	5	2.0	2.0