CH与聚变材料Be相互作用的分子动力学模拟

• 作者: 张静全 曹小岗 欧巍 潘宇东 田树平 苟富均 陈顺礼
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 分子动力学 化学键 反应层 中间层 溅射率
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 所属期刊栏目: 真空技术与理论
• 页码范围: 687-693
• 分类号: TL61+2|TL62+7
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2014.07.05

摘要

采用分子动力学方法模拟了不同能量的CH粒子与聚变材料Be的相互作用.根据托卡马克中的环境,入射粒子CH的模拟入射能量分别设定为低能量(1,5,10,25eV)和高能量(50,100,150,200 eV),其中碳的沉积率随能量的增大逐渐增加,而氢的沉积率恰好相反.当CH粒子的入射能量为低能量时,Be样品表面形成一层碳氢膜;且其膜厚度越来越薄,并且形成一个厚度逐渐增加中间层;当入射能量为高能量时,样品中的Be原子溅射越来越大,入射粒子在样品中的入射深度越来越深,对样品的破坏越来越大,且会在样品中形成一个C反应层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张静全	四川大学材料科学与工程学院	69	285	8.0	15.0
2	潘宇东		27	80	5.0	7.0
3	苟富均	四川大学原子核科学技术研究所	12	12	2.0	3.0
4	田树平	四川大学原子核科学技术研究所	7	7	1.0	2.0
5	曹小岗	四川大学原子核科学技术研究所	11	6	1.0	2.0
6	欧巍	四川大学原子核科学技术研究所	5	1	1.0	1.0
7	陈顺礼	四川大学原子核科学技术研究所	9	6	1.0	2.0