外加磁场对射频磁控溅射制备铝掺杂氧化锌薄膜影响的研究

• 作者: 周细应 杨国良 毛秀娟 邵佳佳 陈明
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 外加磁场 磁控溅射 AZO 透明导电薄膜
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 098103-1-098103-8
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.63.098103

摘要

利用射频磁控溅射法制备了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜，在传统的磁控溅射系统中引入外加磁场，研究了外加磁场对AZO薄膜沉积速率、形貌结构及光电特性的影响.研究结果表明，外加磁场后薄膜的沉积速率从不加磁场的13.04 nm/min提高到了19.93 nm/min；外加磁场后薄膜表面平整致密、颗粒大小均匀，结晶质量较高，而不加磁场薄膜表面形貌呈蠕虫状，薄膜质量较差.溅射时间为90 min时，外加磁场前后AZO薄膜方阻分别为30.74?/□和12.88?/□.外加磁场对薄膜可见光透过率影响不大，但使薄膜的吸收边蓝移现象更明显.运用ansys软件对磁控溅射二维磁场分布模拟后发现，外加磁场提高了靶上方横向磁场强度，改善了磁场分布的均匀性，加强了磁场对电子的磁控作用，提高了靶电流，是AZO薄膜的溅射速率、光电性能和形貌结构得到提高和优化的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周细应	上海工程技术大学材料工程学院	114	777	15.0	25.0
2	毛秀娟	上海工程技术大学材料工程学院	7	41	5.0	6.0
3	杨国良	上海工程技术大学材料工程学院	6	40	4.0	6.0
4	陈明	上海工程技术大学材料工程学院	4	13	2.0	3.0
5	邵佳佳	上海工程技术大学材料工程学院	4	13	2.0	3.0