多孔阳极氧化铝膜形成过程中电场分布的有限元分析

• 作者: 任元 刘学杰 刘金会 李良方
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔阳极氧化铝膜 电场分布 孔洞 有序生长 有限元分析
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 19-21
• 分类号: TG174.451
• 语种: 中文

摘要

为了进一步了解多孔阳极氧化铝膜孔洞的形成、发展过程与电场分布的关系,建立了4种模型对多孔阳极氧化铝膜中孔洞形成初始阶段和发展阶段的电场分布情况进行了有限元分析.结果表明:在孔洞初始阶段,孔洞间距较小的孔洞底部电场强度小,而间距较大的孔洞底部电场强度较大,浅孔底部电场强度较小,深孔底部电场强度较大;在孔洞发展阶段,间距不等的孔底部电场分布不均,面向壁厚侧底部电场强度较大,面向壁薄侧底部电场强度较小.这些电场分布情况可为进一步分析孔洞发展以及导致孔洞有序分布因素奠定基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘学杰	内蒙古科技大学机械工程学院	57	114	6.0	7.0
2	任元	内蒙古科技大学机械工程学院	31	62	4.0	6.0
3	刘金会	内蒙古科技大学机械工程学院	1	4	1.0	1.0
4	李良方	内蒙古科技大学机械工程学院	2	14	2.0	2.0