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摘要:
精确提取三维芯片中硅通孔(Through Silicon Via,TSV)电容在三维芯片设计中至关重要.使用后钻孔工艺(Via last technology)制造的TSV将贯穿导体层,使得TSV和互连线之间的耦合电容需要精确建模.文中提出的解析公式方法可以快速提取圆柱形TSV与互连线间的二维耦合电容.对于较短的互连线,文中采用基于最小二乘拟合得到的解析公式,而对于较长的互连线,使用基于电场模拟得到的解析公式.数值实验表明和商业软件Raphael相比,文中方法可以在结果误差不超过9.1%的情况下获得至少三千倍的加速.
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文献信息
篇名 圆柱形硅通孔的二维解析电容模型
来源期刊 计算机学报 学科 工学
关键词 圆柱形硅通孔 三维芯片 解析模型 电容提取
年,卷(期) 2014,(7) 所属期刊栏目 芯片设计及嵌入式系统
研究方向 页码范围 1521-1527
页数 7页 分类号 TN47
字数 3943字 语种 中文
DOI 10.3724/SP.J.1016.2014.01521
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 骆祖莹 北京师范大学信息科学与技术学院 28 143 7.0 11.0
2 喻文健 清华大学计算机科学与技术系 29 100 5.0 8.0
3 张青青 北京师范大学信息科学与技术学院 1 2 1.0 1.0
传播情况
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2019(1)
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研究主题发展历程
节点文献
圆柱形硅通孔
三维芯片
解析模型
电容提取
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
计算机学报
月刊
0254-4164
11-1826/TP
大16开
中国科学院计算技术研究所(北京2704信箱)
2-833
1978
chi
出版文献量(篇)
5154
总下载数(次)
49
总被引数(次)
187004
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