YBCO涂层导体用哈氏合金C-276基带电化学抛光

• 作者: 吴向阳 彭东辉 徐静安 朱海 韩婕
• 来源期刊: 化工机械
• 学科: 工学
• 关键词: 涂层导体 哈氏合金C-276 基带 电化学抛光 均匀设计
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 423-426
• 页数: 4页
• 分类号: TQ050.4
• 字数: 2298字
• 语种: 中文

摘要

为改善哈氏合金C-276基带表面质量,以磷酸-硫酸及添加剂体系作为电解抛光液,采用均匀实验设计方法,对基带进行电解抛光试验,利用原子力显微镜(AFM)对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化.优化结果表明,在室温下,采用磷酸(85％)、硫酸(98％)体积比为27∶50及适量比例添加剂组成的电解液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度(Rms)在25μm×25μm范围内可降低到10nm以下.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭东辉		24	67	5.0	7.0
2	吴向阳		35	181	8.0	11.0
3	徐静安		37	149	6.0	10.0
4	韩婕		12	41	4.0	5.0
5	朱海		4	9	2.0	2.0