中国集成电路设计业发展现状及热点趋势

• 来源期刊: 集成电路应用
• 学科: 工学
• 关键词: 集成电路 设计 Synopsys
• 年，卷（期）: 2014,（8）
• 所属期刊栏目: 业界风云
• 页码范围: 12-13
• 页数: 2页
• 分类号: TN402
• 字数: 2006字
• 语种: 中文

摘要

集成电路设计采用的28纳米(含32和28纳米)工艺的芯片流片在数量上突破了500家，28纳米成为了当前数字芯片的主流工艺。下一代的工艺进展如何？20纳米和14纳米哪个会更适合？Synopsys Chairmanco CEO Aartde Geubs博士的专业见解值得中国半导体产业业者细细体会。