热处理对离子束溅射Ta2O5薄膜特性的影响

• 作者: 刘丹丹 刘华松 姜承慧 季一勤 王利栓 陈德应
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 离子束溅射 Ta2O5薄膜 退火温度 光学常数 薄膜折射率
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 2645-2651
• 页数: 7页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2741字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20142210.2645

摘要

利用离子束溅射沉积技术制备了Ta2O5薄膜,在100～600℃的大气氛围中对其进行热处理(步进温度为100℃),并对热处理后样品的光学常数(折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度)、应力、晶向和表面形貌进行了研究.研究显示,随着热处理温度增加,薄膜折射率整体呈下降趋势,折射率非均匀性和物理厚度呈增加趋势,结果有效地改善了薄膜的消光系数和应力,但薄膜的晶向和表面形貌均未出现明显的变化.结果表明:热处理可以有效改变薄膜特性,但需要根据Ta2O5薄膜具体应用综合选择最优的热处理温度.本文对离子束溅射Ta2O5薄膜的热处理参数选择具有指导意义.