湿法刻蚀腔室结构数值优化

• 作者: 向东 夏焕雄 张瀚 杨为 王伟
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 刻蚀腔室 流场仿真 均匀性 刻蚀速率
• 年，卷（期）: 2014,（5）
• 页码范围: 1110-1114
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 3125字
• 语种: 中文

摘要

为确定某种新型刻蚀机最优的晶圆与喷淋头间距(Gap),通过CFD仿真分析气体在不同Gap腔室内的物质输运分布,并结合乙醇环境下HF酸刻蚀SiO2工艺的物理化学过程,建立了刻蚀速率估算公式,以此分析了不同Gap腔室的刻蚀速率及刻蚀均匀性,最终获得了具有最佳刻蚀效果的腔室结构.研究分析表明:Gap较小时晶圆中心刻蚀速率偏高,Gap较大时晶圆边缘刻蚀速率偏高;平均刻蚀速率随着Gap的增大逐渐降低,而刻蚀不均匀度随Gap增大先减小后增大,在Gap取值70 mm时刻蚀均匀性最佳且刻蚀速率较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨为	重庆大学机械传动国家重点实验室	58	856	17.0	27.0
2	向东	清华大学精密仪器与机械学系	119	1085	17.0	27.0
3	王伟	重庆大学机械传动国家重点实验室	33	328	9.0	17.0
4	夏焕雄	清华大学精密仪器与机械学系	7	29	3.0	5.0
5	张瀚	清华大学精密仪器与机械学系	2	3	1.0	1.0