CCD光刻图形缺陷的形成及消除措施

• 作者: 吴可 李佳 雷仁方
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: CCD 光刻 图形 缺陷
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 647-649
• 分类号: TN305.7
• 语种: 中文

摘要

描述了CCD光刻过程中出现的常见缺陷及其分类.对光刻过程中缺陷产生的原因进行了分析,找出工艺设置和工艺操作过程中容易出现的问题;并针对各类缺陷,提出了相应的解决措施,以达到消除缺陷的目的,使工艺能力得到提升.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李佳		2	4	1.0	2.0
2	雷仁方		14	32	4.0	5.0
3	吴可		4	1	1.0	1.0