空心阴极气流溅射法沉积Al掺杂ZnO膜的电学与光学性质(上)

• 作者: 刘光诒
• 来源期刊: 太阳能
• 关键词: 空心阴极气流溅射法 ZnO膜 Al掺杂 电学性质 光学性质
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 科普苑
• 页码范围: 12-13
• 页数: 2页
• 字数: 1406字
• 语种: 中文

摘要

对Al掺杂的ZnO膜(AZO),一般是通过空心阴极气流溅射法,采用Zn-Al合金靶,将它沉积在玻璃上.溅射功率通常固定在1500W,室温下,O2流量为38～50 sccm,可沉积出电阻率0.81×10-3～1.1×10-3Ω·cm的AZO膜,沉积速率几乎恒定在270 ～ 300 nm/min.此外,在200℃、O2流量为25 ～ 50 sccm下,也能得到5.2×10-4 ～ 6.4×10-4Ω·cm的低电阻率AZO膜,且能达到200 ～ 220 nm/min恒定沉积速率.两种膜在可见光范围内的透明度均在80％以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘光诒		3	0	0.0	0.0