基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
采用射频磁控溅射方法在n型硅片上制备了底栅顶结构的铟镓锌氧-薄膜晶体管( IGZO-TFT)。分别采用Au、Cu、Al 3种金属材料作为电极,研究不同电极材料对IGZO薄膜晶体管性能的影响。器件的输出特性和转移特性测试结果表明:以Au为电极的IGZO-TFT具有最佳的性能,其饱和输出电流达到17.9μA,开关比达到1.4×106。基于功函数比较分析了3种电极的接触特性,根据TLM(Transmission line model)理论推算得出Au电极具有三者中最小的接触电阻。
推荐文章
绝缘层材料及结构对薄膜晶体管性能的影响
半导体器件仿真
薄膜晶体管
绝缘层
氮化硅
二氧化铪
叠层结构
半导体薄膜晶体管的节能设计方法研究
半导体
薄膜晶体管
节能
电源回路
沟道层带尾态密度和厚度对a-IGZO薄膜晶体管特性影响的数值仿真
非晶铟镓锌氧化物
薄膜晶体管
尾态密度
沟道厚度
仿真
栅介质材料及尺寸对薄膜晶体管性能影响研究
薄膜晶体管
高介电常数
栅介质材料
栅介质尺寸
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 电极材料对IGZO薄膜晶体管性能的影响
来源期刊 发光学报 学科 工学
关键词 IGZO 接触电阻 TLM理论 功函数
年,卷(期) 2014,(11) 所属期刊栏目 器件制备及器件物理
研究方向 页码范围 1365-1369
页数 5页 分类号 TN321+.5
字数 2165字 语种 中文
DOI 10.3788/fgxb20143511.1365
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 邓宏 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 72 653 14.0 22.0
2 韦敏 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 15 131 7.0 11.0
3 杨帆 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 36 128 7.0 9.0
4 贾卓 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 3 11 2.0 3.0
5 刘冲 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 4 21 3.0 4.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (29)
共引文献  (12)
参考文献  (15)
节点文献
引证文献  (6)
同被引文献  (4)
二级引证文献  (12)
1977(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
1992(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1995(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2000(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
2003(7)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(6)
2004(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2005(5)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(5)
2006(6)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(5)
2007(3)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(1)
2008(8)
  • 参考文献(6)
  • 二级参考文献(2)
2009(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2010(6)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(5)
2011(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2012(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2014(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2015(3)
  • 引证文献(3)
  • 二级引证文献(0)
2016(4)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(3)
2017(3)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(2)
2018(5)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(4)
2019(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
2020(2)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
IGZO
接触电阻
TLM理论
功函数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
发光学报
月刊
1000-7032
22-1116/O4
大16开
长春市东南湖大路16号
12-312
1970
chi
出版文献量(篇)
4336
总下载数(次)
7
总被引数(次)
29396
论文1v1指导